光学邻近修正(Optical Proximity Correction，OPC)是一种光刻分辨率增强技术。OPC主要在半导体器件的生产过程中使用。

 

OPC 的工作原理

 

OPC 是基于对掩模布局的精心调整来补偿光刻过程中光线的非理想特性。通过对原始设计进行可控的修改，OPC 旨在纠正图像失真，提高关键尺寸（CD）的均匀性，并最小化工艺差异。

 

随着光的特征尺寸波长的减小，成像错误的程度也会增加。在这种情况下，基于规则的 OPC 不是一个可行的选择，因为曝光结果现在越来越受到环境的影响。现在每个结构对光掩模的修正得单独确定。比如图中展示的基于模型的 OPC 结果，就是更先进的解决方法。

 

 

光刻时，掩模版上的图形通过曝光系统投到光刻胶上。但由于光临近效应的存在，加上光的衍射、干涉，使得光刻胶上的图形和掩模版上的图形不完全一样，比如直角变圆角、线条宽窄不一、窄线条变短等，这就是光学邻近效应。不纠正这些失真，做出来的电路电气性能可能偏差很大。

 

OPC 就是专门解决这个问题的。它靠软件计算来提前调整掩模版上的图形，包括尺寸和形状，给后续可能出现的变形做补偿。简单说，就是对原始设计进行可控修改，补偿光刻中光线的非理想特性，纠正图像失真，让关键尺寸更均匀，尽可能缩小工艺差异。

 

OPC 的未来

 

随着对更小节点和更高集成密度的不懈追求，OPC 在超大规模集成电路制造过程中能够减轻光学邻近误差的影响，确保图案复制的精确性和可靠性。诸如极紫外（EUV）光刻和多重图案化等新兴技术进一步凸显了对先进 OPC 技术的需求。

 

挑战：算力

 

先进的技术节点带来了诸如掩模复杂度增加和计算强度增大等挑战，这些问题通过创新的算法和硬件加速得以解决。

 

Reference:

 

1.Optical Proximity Correction (OPC) in VLSI.

 

 

来源：十二芯座

关键词： 芯片